[공시] 솔브레인, 디엔에프 인수로 변신...불경기 돌파의 묘수될까

[알파경제=박남숙 기자] 솔브레인이 전 거래일 대비 3.31% 상승한 24만9500원으로 마감했다.

2일 인공지능 공시분석 프로그램 타키온에 따르면 이날 종가 기준 솔브레인의 YTD는 15.35%에 달한다.

솔브레인은 반도체 식각(蝕刻·etching) 공정에서 소모성 재료를 공급하는 기업이다. 소모성이기에 반도체 생산에 주기적으로 납품하고, 솔브레인에게는 매출이 주기적으로 일어난다는 뜻이다.

식각은 반도체 회로 부분을 남기고(蝕) 깎았다(刻)는 뜻이다. 조각(彫刻)의 '각'자와 일식(日蝕)의 '식'을 조합한 용어이다.

솔브레인의 식각 기술은 세계적이다. 삼성전자는 작년 7월 파운드리 공정에서 사용하는 GAA(Gate All Around)를 세계 최초로 개발했다.

성공 기념식에 초청 받은 5대 협력사가 있는데, 솔브레인이 그 중의 하나이다. 솔브레인의 매출은 올해 좋지 못하다. 비록 파운드리인 GAA에서도 세계적 기술을 보유한 기업으로 자리매김했지만, 주된 매출처인 메모리 반도체의 업황이 올해 부진하기 때문이다.

이런 상황에서 솔브레인은 멈추지 않고 능동적으로 대응했다.

솔브레인이 지난달 30일 반도체 공정 기업인 디엔에프를 전격 인수한다고 공시했다. 주당 4만8000원에 200만주를 추가로 인수했다. 1000억원에 달하는 투자를 단행했다. 기존 지분율을 포함해 솔브레인의 디엔에프 지분율은 21.92%가 됐다.

사실 해당 인수는 지난 8월에도 거론됐다. 8월 9일 디엔에프 주가는 장중 10% 급등하기도 했다.

디엔에프는 반도체 전구체(precursor·前驅體)를 제조한다. 웨이퍼의 맨 아랫 단에 전구체를 놓으면 그 위로 차곡차곡 다른 물질을 적층한다. 전구체라는 단어의 뜻은 공정 과정에서 반드시 처음 물성이 변한다는 점을 강조한 것이다.

반도체가 선폭이 10㎚(나노미터·1㎚=10억분의 1미터) 이하로 줄면서 기존의 CVD(Chemical Vapor Deposition·화학기상증착) 방식의 증착은 불가능해졌다. 대안이 원자를 낱개로 적층하는 ALD(Atomic Layer Deposition) 방식이다.

원자를 낱개 단위로 웨이퍼 기판 위에 올린다는 자체가 어려운 기술이다. 바꿔 말하면, 이를 실현할 수 있는 디엔에프의 경쟁력은 높다는 의미가 된다. 디엔에프 경쟁력은 삼성전자의 투자로 이어졌다. 삼성전자가 디엔에프의 지분 7%를 21년에 인수했다.

솔브레인의 주요 주주로 미국 유수의 자산운용기관인 피델리티와 템플턴 자산운용이 있다. 구 기관은 각각 8.15%와 6.81%를 보유하고 있다.

솔브레인의 목표 주가로 키움증권은 35만원을, 한국투자증권은 32만원을 각각 제시했다.