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SK, 지난해 中 특허 1133건 승인…SK하이닉스 '강유전체' 차세대 메모리 IP까지 확보

입력: 2025- 01- 03- 오후 07:29
© Reuters.  SK, 지난해 中 특허 1133건 승인…SK하이닉스 \'강유전체\' 차세대 메모리 IP까지 확보
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[더구루=정예린 기자] SK그룹이 중국에서 반도체와 배터리 기술 경쟁력 확보를 위한 특허 확보에 나섰다. SK그룹의 미래 10년을 책임질 주요 기술에 대한 지적재산권(IP)을 대거 확보하며 기술 리더십을 재확인했다.

3일 중국 국가지적재산권국(CNIPA)에 따르면 CNIPA는 지난달 SK그룹 계열사가 출원한 특허 82건을 승인했다. 지난달 승인 절차는 9일에 걸쳐 이뤄졌으며, 일 평균 약 9건의 특허에 대한 허가를 받았다.

SK그룹이 올해 중국에서 확보한 특허 수는 총 1133건이다. △1월 94건 △2월 41건 △3월 84건 △4월 82건 △5월 152건 △6월 124건 △7월 96건 △8월 108건 △9월 102건 △10월 94건 △11월 74건 △12월 82건이다. 특히 SK하이닉스가 승인받은 특허가 621건으로 전체의 절반 이상을 차지했다.

지난달 확보한 특허를 세부적으로 살펴보면 단연 SK하이닉스의 활약이 돋보였다. SK하이닉스는 지난달 중국에서 54건의 특허를 확보했다. SK이노베이션과 SK온은 양사가 공동 출원한 특허를 포함해 각각 5건과 20건의 특허를 손에 넣었다. △SK텔레콤(3건) △SK케미칼(2건) △SKC(1건)이 각각 특허를 승인받았다.

SK하이닉스의 경우 강유전체 관련 기술 개발 현황이 지난달 확보한 특허를 통해 확인됐다. SK하이닉스가 승인받은 '강유전체 메모리 소자 및 강유전체 메모리 소자 제조 방법(특허번호 CN119183295A)’이라는 제목의 특허는 강유전체 메모리 소자를 활용해 메모리 반도체를 만드는 방법을 담고 있다.

강유전체(Ferroelectrics)는 차세대 메모리 소자다. 외부에서 전기장을 가하지 않더라도 스스로 전기분극을 나타내는 물질이다. 강유전체를 기반으로 제작된 메모리 소자는 기존 플래시메모리 대비 낮은 구동 전력, 빠른 처리 속도로 인해 차세대 고성능 반도체 메모리 소자로 주목받고 있다.

삼성전자는 오는 2030년까지 1000단 이상 낸드플래시 개발 목표를 달성하기 위해 하프니아 강유전체(Hafnia Ferroelectrics)를 적극 활용하고 있다. 작년 6월 하와이 호놀룰루에서 열린 '국제전지전자학회(IEEE) VLSI 테스트 심포지엄’에서 삼성전자·카이스트(KAIST)·한양대학교가 공동 수행한 하프니아 강유전체에 대한 연구 결과를 발표했다.

SK온은 미래 먹거리로 낙점한 에너지저장장치(ESS)와 전고체 배터리 관련 기술 개발을 확대하고 있다. 단독으로 '에너지 저장 장치(특허번호 CN119170998A)'를, SK이노베이션과 공동으로 '유기-무기 복합 고분자 전해질 및 이를 포함하는 전고체 전지(특허번호 CN119153770A)’ 특허를 각각 확보했다.

유정준 SK온 대표이사(부회장)과 이석희 대표이사(사장)은 전날 공동 명의의 신년사에서 "성장 가능성이 높은 ESS 사업으로의 포트폴리오 다각화도 추진하고 전고체 배터리를 비롯해 셀투팩(Cell-to-Pack) 기술 고도화 등 미래 기술의 경쟁 우위를 확보해야 한다"며 "이는 전기차 시장 변동성에 따른 리스크를 분산시키기 위해서 반드시 필요하다"고 강조한 바 있다.

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