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ASML, 새로운 EUV 리소그래피 툴로 중요한 진전 달성

기사 편집Brando Bricchi
입력: 2024- 03- 01- 오전 03:30
© Reuters.
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네덜란드의 선도적인 반도체 장비 제조업체인 ASML은 혁신적인 고나노 EUV 리소그래피 시스템으로 "첫 번째 빛"이라는 중요한 이정표를 달성했습니다. 수요일에 발표된 이 성과는 새로운 시스템이 아직 완전한 성능을 발휘하지는 못하지만 작동이 가능하다는 것을 의미합니다.

인텔의 기술 개발 책임자인 앤 켈러허는 화요일 산호세에서 열린 SPIE 리소그래피 컨퍼런스에서 프레젠테이션을 통해 이 개발 사실을 처음 공개했습니다. 켈러허의 발표에 이어 ASML은 고난도 EUV 툴의 진행 상황에 대해 켈러허의 발언이 정확함을 확인했습니다.

고 NA EUV 리소그래피 시스템은 더 작고 강력한 칩을 생산할 수 있을 것으로 기대되는 반도체 제조 기술의 발전으로 큰 기대를 모으고 있습니다. "첫 번째 빛"이라는 용어는 툴을 사용하여 이미지를 처음으로 성공적으로 투사하는 것을 의미하며, 이는 시스템의 기능을 검증하는 데 중요한 단계입니다.

ASML이 이 단계에 도달했음을 확인한 것은 고 NA EUV 시스템 개발의 중요한 순간이며, 궁극적으로 본격적인 생산 사용에 더 가까워졌습니다.

로이터 통신이 이 기사에 기여했습니다.

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